创新是企业重要的核心竞争力之一，如今越来越多的企业开始注重知识产权的保护。创新成果得来不易，既可以通过商业秘密进行保护，也可以通过申请专利进行保护，这让不少企业在申请时有点不知所措犯了难。如何才能选择更合适的保护方式呢？其实二者虽然同属知识产权范畴，但还是有明显的区别。搞懂这些区别，就不会再有选择困难症了。

区别1:是否需要公开

商业秘密不需要公开，且“秘密性”需达到不为所属领域的相关人员普遍知悉和容易获得的标准。因此，商业秘密保护的是不为公众所知悉、具有商业价值并经权利人采取相应保密措施的经营信息、技术信息等商业信息。

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专利制度则恰恰相反，它本身就是用公开换垄断，从而促进社会技术进步。因此，专利保护的是处于公开状态的技术方案。

区别2：保护的期限和取得方式不同

商业秘密，只需要随着秘密信息的建立和形成而自动产生，不需要申请、审查、注册、登记、续费等手续，且没有保护期限的限制。

专利，必须由专利权人向国家知识产权局申请，并通过相应审查。并且专利存在着不同的保护期限，根据《专利法》规定，发明专利的期限是20年，实用新型的期限是10年，外观设计的期限是15年。专利保护期限到期后，则会进入公知公用领域。同时值得注意的是，专利每年都是需要支付年费的，未缴年费将面临专利失效的风险！

区别3:保护的地域不同

商业秘密的保护无地域限制。由企业根据自己的需要在不同的国家、地区自行或许可他人进行使用，同时也由企业自行采取保密措施进行保护。

专利权保护有地域限制。专利权的取得依国家法律产生，其只在获得授权的国家或地区内有效。

区别4：技术的难易程度

如果该技术容易通过反向工程被破解，则可以选择以专利方式保护；如果难以被破解、模仿和抄袭，则可以作为商业秘密进行保护。要注意的是：如果通过自行开发、反向工程等途径与商业秘密权人相同或类似的信息，商业秘密的权利人是无权进行干预的，因此通过商业秘密保护丧失权利的可能性也较大。

虽然两者都是知识产权保护方式，但商业秘密更适合保护无法公开、技术更新迭代慢的商业信息和技术，如公司战略、生产流程、技术图纸、客户信息等，而专利更适合保护技术创新和发明。搞清两者的区别，企业在申请知识产权保护的时候，可以根据自己技术的实际情况选择更为合适的保护方式，以此来更好保护重要的创新成果。